జర్నల్ ఆఫ్ నానోమెటీరియల్స్ & మాలిక్యులర్ నానోటెక్నాలజీ

నానోసెకండ్ లేజర్ చికిత్స కారణంగా వనాడియం థిన్ ఫిల్మ్‌లో స్ట్రెయిన్

కోట్సేడి ఎల్, కవియరసు కె, ఫుకు ఎక్స్‌జి, సోన్ బిటి మరియు మాజా ఎం

నానోసెకండ్ లేజర్ చికిత్స కారణంగా వనాడియం థిన్ ఫిల్మ్‌లో స్ట్రెయిన్

వాక్యూమ్ కోటింగ్ టెక్నిక్ ఉపయోగించి ఒక గాజు ఉపరితలంపై వెనాడియం యొక్క పలుచని పూత పెరిగింది. పైజోఎలెక్ట్రిక్ మందం మానిటర్ డిపాజిటెడ్ కోటింగ్‌ల మందాన్ని కొలవడానికి ఉపయోగించబడింది. వెనాడియం పొరను పరిసర పరిస్థితులలో నానోసెకండ్ పల్సెడ్ ఫైబర్ లేజర్ మూలంతో చికిత్స చేశారు మరియు దీని ఫలితంగా లేజర్ నుండి వేడి వెదజల్లడం వల్ల ఉపరితలం పగుళ్లు ఏర్పడింది. లేజర్ ఫ్లూయెన్స్‌కు ప్రత్యక్ష నిష్పత్తిలో పగుళ్ల సాంద్రత పెరగడం గమనించబడింది. అధిక రిజల్యూషన్ స్కానింగ్ ఎలక్ట్రాన్ మైక్రోస్కోప్‌లో గమనించినట్లుగా, పగుళ్ల సాంద్రత పెరుగుదల వెనాడియం పొర యొక్క ఉపరితల మార్పుతో కూడి ఉంటుంది. అధిక లేజర్ ఫ్లూయెన్స్ వద్ద లేజర్ ఉపరితలంపై పిన్‌హోల్స్ ఏర్పడతాయి మరియు ఇది ఆ ప్రయోగాత్మక పరిస్థితులలో లేజర్ పంచింగ్ మరియు జరగడం వల్ల జరుగుతుంది.

నిరాకరణ: ఈ సారాంశం ఆర్టిఫిషియల్ ఇంటెలిజెన్స్ టూల్స్ ఉపయోగించి అనువదించబడింది మరియు ఇంకా సమీక్షించబడలేదు లేదా నిర్ధారించబడలేదు